• 雷射粒徑分析儀|影像圖像分析儀

雷射粒徑分析儀|影像圖像分析儀

• 粒徑範圍:0.01µm-3500µm
• 圖像分析範圍:2µm -3500µm
• 重覆性誤差:≤0.5%(GBRM D50 偏差)
• 準確性誤差:≤0.5%(GBRM D50 偏差)
• 感測器數量:96個
• 進樣方式:溼式自動循環分散系統
• 材料折射率測量
型號 : S3 plus

S3 plus雷射粒徑分析儀|影像圖像分析儀是一種採用半導體532奈米波長的偏振雷射器作為光源的智慧型的雷射粒徑分析儀,採用單一光學全角度測量的光學系統,散射光探測角度無死角,具有高解析度。同時在雷射散射法測量的基礎上結合了動態顆粒圖像測量系統,使粗顆粒端的測量精度更高,同時採用對雷射法資料和圖像法資料進行融合,給出結合測試結果,而且圖像法還可以給出粒形上的資訊資料。

材料折射率測量: 
該儀器還有一個顯著的特點就是可以進行折射率測量,折射率是雷射粒徑分析儀測試中的一個非常重要的參數,正確與否對測量結果的準確性有至關重要的作用,開發出具有創造性的折射率測量系統,使儀器的測量結果真實準確性有個可靠的保障。

雷射粒徑法與圖像法結合技術,折射率測量技術,這兩項技術在世界範圍內也是領先前沿的技術。還具有濃度測量、比表面積推算、比重推算等功能。其它方面具有自動測試、自動對中、自動進水、自動排水、自動消除氣泡、自動清洗等特殊功能。採用高性能的進口半導體雷射器,使用壽命約大於25000小時;採用進口的高精度透鏡組,成像清晰,畸變很小,保證了微弱的、各種角度的散射光信號無一漏網。成像系統採用德國高速CCD與高畫質遠心鏡頭,使顆粒成像清晰,採用高速的顆粒識別軟體,每分鐘可以分析幾萬到幾十萬的顆粒數目。該儀器具有準確可靠、重覆性好、操作簡便、測試速度快等突出特點,是集雷射技術、電腦技術、數位圖像技術、光學技術於一體,適合工廠、大專院校、研究院所等實驗室選用。

光學系統:

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  規格參數

  粒徑範圍

  0.01μm -3500 μm (wet)

  進樣方式

  溼式自動循環分散系統

  重覆性

  ≤0.5% (GBRM D50)

  精準度

  ≤0.5% (GBRM D50)

  測量原理

  米式理論

  最快測試時間

  約≤10s

  雷射光源

  半導體固體雷射

  光學系統

  斜入雙射鏡頭,自動對中

  感測器角度

  0.02-165°

  感測器數量

  96個

  超音波功率

  50W

  循環池容量

  600 ml

  循環池流量

  3000 ml - 8000 ml/min

  影像圖像系統

  圖像分析範圍

  2μm-3500μm

  高速CCD

  120幅/秒

  放大倍數

  20-100倍

  圖像識別速度

  10000顆/分鐘

  分析項目

  粒徑大小,長徑比,圖形度

  電源

  AC 220V 、50/60Hz

  儀器尺寸|重量

  820x610x290mm、48KG

特點:
斜入射雙鏡頭技術:採用雷射斜入射技術,結合前向、側向和後向散射光探測技術,達到全角度測量,擴大了測量範圍,提升了細顆粒端的測量精度,提升了解析度。

顯微圖像與雷射散射二合一技術:雷射法測試細顆粒具有優勢,圖像法測試粗顆粒準確度高,採用雷射與圖像聯合測試,測試結果準確性更高,同時可進行圖像分析。

樣品折射率測試技術:對未知折射率的樣品可以先測量折射率,包括實部和虛部,保證了粒徑測試的準確性。

自動循環分散與自動測試技術:防乾燒超音波分散器、離心循環泵、自動進水系統、自動排水和溢水系統,適用於所有樣品,保證了樣品充分分散,保證了測試的準確性和重覆性。

重覆性:
穩定有效的分散系統。
雷射器、感測器、信號傳輸系統穩定可靠。
自動對中系統使儀器始終保持在理想狀態。
採樣速度達3500次/秒,大量資料有效減少少數異常資料對重覆性的影響。

1.各種非金屬粉:如重鈣、輕鈣、滑石粉、高嶺土、石墨、矽灰石、水鎂石、重晶石、雲母粉、膨潤土、矽藻土、黏土、二氧化矽、石榴石、矽酸鋯、氧化鋯、氧化鎂、氧化鋅等。

2.各種金屬粉:如鋁粉、鋅粉、鉬粉、鎢粉、鎂粉、銅粉以及稀土金屬粉、合金粉等。

3.其它粉體:河流泥沙、鋰電池材料、催化劑、螢光粉、水泥、磨料、醫藥、農藥、食品、塗料、染料、陶瓷原料、化工材料、奈米材料、造紙填料塗料、各種乳濁液等。

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